Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych .
Źródło: http://kopalniawiedzy.pl/Intel-EUV-litografia-ekstremalnie-daleki-ultrafiolet-ASML-Nikon-TSMC-Samsung-uklad-scalony-9823.html